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彩谱科技_DS-210色差仪_DS-210

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（1）双光路设计提升重复性精度dE*ab≤0.03

双光路设计在测量样品信号的同时监测光源能量波动，在测量时减少干扰，获得更高的测量稳定性，将仪器测量重复性指标提高至dE*ab≤0.03 。保证了仪器测量速度、准确性和稳定性。相关技术受到中国发明专利和美国发明专利保护。

（2）创新的5微米厚度纳米集成光学器件

历经潜心研究，采用纳米集成光学器件作为分光器件，只需5微米厚度的光学器件即可实现纳米级别的分光能力，再一次指引了行业创新方向，极大的提升了产品的技术表现。相关技术受到中国发明专利保护。